RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统，能够满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计，RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。

应用:

硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。

主要功能和优点：

1、加工至ø220mm（ø3“x5，ø4”x3，ø8”x1）。

2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。

3、自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护。

4、于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，全球安装了400多个系统。

主要参数规格：